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ご質問をありがとうございます。

真空システムを設計する場合には基本的に以下の様な項目を明確にする必要があります。
1）どの様な物（材料）をどれくらいの量（大きさ）で真空装置でどの様な処理をするのか。
2）その際の条件（加熱温度、加熱スピード、温　度制御性、圧力、ガス雰囲気等）

以上の点を決めた上で、装置の仕様（真空ポンプの選定、チャンバーの大きさ、加熱ヒーターの種類、温度制御方式等を決めていきます。
この為、200℃の加熱温度以外の条件を、詳しくお教え頂ければ、もう少し具体的なご回答ができると思います。
よろしくお願い申し上げます。